Главная страницаZaki.ru законы и право Поиск законов поиск по сайту Каталог документов каталог документов Добавить в избранное добавить сайт Zaki.ru в избранное




Решение N 469 Межгосударственного Совета Евразийского экономического сообщества "О внесении изменений и дополнений в Типовые списки товаров и технологий, подлежащих экспортному контролю" (Принято в г. Санкт-Петербурге 11.12.2009)





разработанным
или модифицированным для военного
применения

первое и второе предложения пункта 5 технических примечаний к пункту 2.2 изложить в следующей редакции:

"5. Заявленная точность позиционирования
для каждой модели станка, полученная в
результате измерений, проведенных в
соответствии с международным стандартом
ISO 230/2 (1997) или его национальным
эквивалентом, может использоваться для
всех станков одной модели как
альтернатива испытаниям отдельных
станков.
Заявленная точность позиционирования
означает ее значение, представленное
в качестве показателя точности станков
модели конкретного исполнения специально
уполномоченному государственному органу
исполнительной власти в области
экспортного контроля.";

после примечаний к пункту 2.2.1 включить особое примечание следующего содержания:

"Особое примечание.
Для станков чистовой обработки (финишных
станков) оптики см. пункт 2.2.2";

в пункте 2.2.2:
после слов "оптических поверхностей" включить слова "с выборочным снятием материала";
в подпункте "в" слово "три" заменить словом "четыре";
подпункт "г" дополнить абзацами следующего содержания:

"чистовой обработки с помощью рабочего
органа в виде надувной мембраны; или
жидкоструйной чистовой обработки";

техническое примечание изложить в следующей редакции:

"Техническое примечание.
Для целей пункта 2.2.2:
а) под МРЧО понимается процесс съема
материала, использующий абразивную
магнитную жидкость, вязкость которой
регулируется магнитным полем;
б) под ЭРЧО понимается процесс съема
материала, использующий абразивную
жидкость, вязкость которой регулируется
электрическим полем;
в) под чистовой обработкой пучками
высокоэнергетических частиц понимается
процесс, использующий плазму атомов
химически активных элементов или пучки
ионов для избирательного съема материала;
г) под чистовой обработкой с помощью
рабочего органа в виде надувной мембраны
понимается процесс, в котором
используется мембрана под давлением,
деформирующая изделие при контакте с ней
на небольшом участке;
д) под жидкоструйной чистовой обработкой
понимается процесс, использующий поток
жидкости для съема материала";

в подпункте "в" пункта 2.2.6.2.1:
абзац третий изложить в следующей редакции:

"сохраняющие в течение по крайней мере 12
часов при температуре 20 °C +/- 1 °C все
следующие характеристики:";

абзац пятый изложить в следующей редакции:

"способность достигать погрешности
измерения при компен



> 1 2 3 ... 9 10 11 ... 32 33 34

Поделиться:

Опубликовать в своем блоге livejournal.com
0.1349 с